技术编号：8942193
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。纳米压印技术主要包括热压印(HEL)、紫外压印(UV—NIL)(步进一闪光压印(S—FIL))和微接触印刷UCP)。压印光刻工艺中压印模版的制作是其关键技术之一，在常温压印光刻中，由于曝光以及多层压印对准的要求，需要采用透明模版，其制作方法通常是电子束直写技术在硅片上刻蚀出图形，优点是可以刻蚀出小于I微米特征尺寸的图形，适用于微机电(MEMS)和集成电路(1C)，缺点则是只能在小面积尺寸上采用。纳米压印技术所采用的模具也称为掩模版或印章。模具是NIL(纳米...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。