技术编号：8942202
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征的构图。这样的基底可包括用于制造 半导体器件、多种集成电路、平面显示器（例如液晶显示器）、电路板、生物芯片、微机械电 子芯片、光电子线路芯片等的芯片。 在直写曝光过程中，基底放置在精密运动平台的基底台上，通过处在光刻设备内 的曝光装置和精密运动平台的运动，将特征构图投射到基底表面的指定位置，为了实现高 精度曝光，对于图形发生器与精密运动平台X轴、Y轴方向之间角度的确定尤为重要。 对于直写式光刻机，图形发生器与精密运动...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。