技术编号：8985359
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在西门子法生产多晶硅的还原炉中，通常将一定配比的三氯氢硅(SiHCl3)和氢气(H2)混合气从还原炉底部的进气口喷入，在还原炉内发生气相还原反应，反应生成的硅(Si)直接沉积在炉内的硅芯表面。随着反应的持续进行，硅棒不断生长最终达到产品要求。在反应过程中，还原炉底部工艺气体在炉内的分布对多晶硅棒的生长质量具有重要影响。目前，多晶硅生产中采用的多晶硅还原炉包括12对棒、18对棒、24对棒、36对棒和48对棒等型号。在还原炉底盘设计和制造时，需要在底盘上开进气...
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