技术编号：9085306
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。物理气象沉积(PVD)技术是在真空条件下，将固体材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有蒸镀、溅射镀和离子镀。化学气相沉积(CVD)作为一类镀膜工艺也有广大应用，但总体来说PVD和CVD比较具有工艺温度低、生产周期短、无污染，并且PVD镀膜层表面有较好的金属光泽、膜层厚度薄、硬度高、化学性能稳定、摩擦系数小等诸多优点，其逐渐在机械、电子、半导体、光学、航空...
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