技术编号：9087633
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前，光栅器件的制作主要是在采用二氧化硅等无机光学材料，例如，在单晶硅衬底上沉积一层二氧化硅材料作为下包层，经过高温致密化处理后再在下包层上沉积一层掺杂二氧化硅作为芯层，再次经过高温致密化处理后在芯层上刻蚀出光栅图案，最后沉积一层二氧化硅作为上包层，第三次经过高温致密化处理后完成光栅的制备。这种光栅器件全采用二氧化硅无机光学材料，且制备过程中需经过三次高温致密化处理，由于衬底硅材料和波导二氧化硅材料的热膨胀系数相差很大，高温处理后在室温时会在二者之间形成较...
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