技术编号：9103226
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。半导体设备需要用气相沉积设备反应气体集中控制系统(以下简称为气体集中控制系统)输送气体，在气体集中控制系统运输时，需要对气体集中控制系统内填充正压，防止污染。在装调时，安装气体集中控制系统，并对气体集中控制系统进行检漏及保压测试。如果能在气体集中控制系统采购到货后，就对其进行氦气检漏及保压测试，可保证在气体集中控制系统安装在机台上时顺利通过检漏。否则，此时再对其进行漏点，一旦有漏再进行排查，时间的不确定性会影响机台整体里程碑。另外，不同的半导体工艺需要不同...
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