技术编号:9136184
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着工业的发展,人们对生产的洁净度要求越来越高,特别是半导体器件生产,化工药物等;纯净度要求非常高,因此需要对加工空间进行抽真空处理。目前的抽真空方式为直接用真空栗进行抽真空并对外排气,然而直接对外排气会造成污染,污染环境,其次真空栗在抽真空时,粉尘等颗粒物质容易进入,造成对真空栗的损伤。实用新型内容本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种洁净式真空系统,该真空系统可以避开污染,达到洁净式的抽真空;同时起到保护真空栗的效果。为达到上述目的,本实用新...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。