技术编号：9163634
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。纳米压印光刻技术(Nanoimprint Lithography, NIL)是由美国明尼苏达大学纳米结构实验室Stephen Y.Zhou教授于1995年开始进行的开创性研究，是一种全新微纳米图形化的方法，使用压印模具通过抗蚀剂的受力变形实现其图形化的一种新型技术。随着近几年纳米压印技术的发展，越来越多的领域使用纳米压印设备代替电子束光刻设备。其主要应用领域高亮度光子晶体LED、高密度磁盘介质(HDD)、光学元器件(光波导、微光学透镜、光栅)、生物微流控器...
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