技术编号:9179936
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。传统的密封结构为双层密封结构,采用的密封件为O型密封圈(条)的环状密封结构。由于镀膜腔室内的真空度要求非常高,而双层环状密封之间储存有少量空气,当内层环状密封圈的密封能力减弱时,这些残留的少量空气就会被吸入到镀膜腔室内,破坏整个腔室内的高真空状况,影响产品镀膜质量。实用新型内容针对现有技术中的上述不足,本实用新型提供了一种镀膜腔室高真空密封结构,其能够将残留于其内部的少量空气排出。为了达到上述发明目的,本实用新型采用的技术方案为提供一种镀膜腔室高真空密封结...
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