技术编号：9196182
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。真空沉积设备能使在蒸发室中蒸发的材料，如半导体材料或化合物(例如，硅、砷化镓、磷化铟等)、无机材料(例如，砸、锑、磷)、或者有机材料(例如，三(8-羟基喹啉)铝(III)或Alq3等)沉积到安置于保持真空的沉积室中的基质上。更具体地，这种设备包括用于蒸发该材料的蒸发单元、包含待蒸发材料并且与所述蒸发单元的蒸发室相接合的第一坩祸、以及蒸发装置，该蒸发装置设置成将该第一坩祸置于蒸发条件下，以产生经过蒸发室输出开孔的材料蒸汽流，该输出开孔接合到注射器上以将蒸气喷...
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