超紫外线光刻投影光学系统和相关方法技术资料下载

技术编号:9199781

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半导体集成电路(IC)工业经历了快速发展。IC材料和设计中的技术进步产生出了一代又一代1C,每代IC都比前一代IC具有更小和更复杂的电路。在IC的发展期间,随着几何尺寸(即,利用制造工艺可以形成的最小元件(或线))的减小,功能密度(即,单位芯片面积的互连器件的数量)通常会增大。该按比例缩小工艺通过增加生产效率和降低相关成本提供益处。该按比例缩小工艺还增加了处理和制造IC的复杂程度,对于这些即将实现的改进,需要在IC处理和制造中进行类似的改进。例如,采用超紫...
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