技术编号:9203902
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。光刻工序所使用的曝光装置中,例如已知有下述专利文献公开的介由液体以曝光用光将基板曝光的浸液曝光装置。专利文献1美国专利申请公开第2008/266533号专利文献2美国专利申请公开第2005/018155号发明内容浸液曝光装置中,在基板等物体上形成浸液区域的状态下,有时作为基板的晶片表面的抗蚀剂、顶涂层所含的成分溶出至液体(纯水)中。因此,溶出至液体(纯水)中的抗蚀剂、顶涂层成分有可能再析出到形成浸液区域的部件表面,该析出物因水流(液流)而剥离并附着于基板。...
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