技术编号:9203903
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于将化学前体沉积在基质上的,具体地属于通过将蒸发的前体 通过载气朝基质运送的沉积技术(VTD,气相运送沉积),该技术例如应用于产生涂层或制 造光电池。本发明尤其涉及用于将化学前体运送到基质的蒸发源,以及使用前述蒸发源的 用于运送所述化学前体的蒸发方法。背景技术 如今,存在不同的沉积技术,这些沉积技术将蒸发的前体或待沉积成分运送到基 质,所述蒸发的前体或待沉积成分通过凝结沉积在所述基质上,并且这些沉积技术被使用 在例如涂覆或制造光电池的许多应用中。...
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