技术编号:9212836
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。物理气相沉积(PVD)技术通常是指在一定真空条件下,以某种特殊的物理方式将作为靶材的固体材料气化,然后沉积在基体表面并赋予其某种特殊功能的涂层制备技术。物理气相沉积技术包括磁控溅射技术和多弧离子镀技术。目前,采用磁控溅射技术或离子镀技术在工、模具表面沉积硬质涂层因能够显著提高工、模的使用寿命和被加工零件的质量,已经获得越来越广泛的应用。对于这两类涂层制备技术,靶材是提供镀料和获得涂层的关键材料,因此,高品质的靶材是获得高性能涂层材料的基础。随着硬质涂层材料...
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