一种直写光刻设备的位置同步方法技术资料下载

技术编号:9216358

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直写光刻机设备是通过特定波长的激光与涂有光刻胶的基底或压上干膜的PCB板直接发生反应并曝光出图形,他比传统曝光机省掉了光罩或菲林等工序,其一方面可以提高细导线的制造精度和合格率,使多层对位更加精确;另一方面缩短了生产流程,加快周转速度,降低成本。直写光刻设备需要使用精密位移平台来完成精准对位与同步位置扫描,平台的位置同步直接影响了 LDI设备曝光图形的准确性及对位精度。目前,直写曝光设备的位置同步信号一般使用平台驱动器处理后的同步位置输出信号,其受到平台驱...
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