技术编号：9216363
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。电子束光刻技术(或称电子束曝光技术)是一种重要的自上而下的纳米加工制造技术。其传统应用是制造光学光刻所需的掩模板，而随着近些年纳米科学技术蓬勃发展，电子束光刻直写技术成为制作和实现纳米尺度结构的重要手段。电子束光刻过程是一个串行的过程，所以效率很低。例如，要完全曝光一个8英寸的晶圆并得到高分辨率高密度结构，在保证结构质量的前提下，即使使用现在速度最快的电子束曝光设备也需要很多天(而光学光刻一般是每小时光刻上百片)，这种效率较低的光刻工艺，不但造成成本高，而...
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