技术编号：9225896
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。二氧化钒(VO2)薄膜是一种具有独特相变特性的钒氧化物薄膜，在低温时表现出半导体特性，具有高的红外透射率，而高温相变后则呈现出金属特性，对红外呈现出高反射率。且其相变温度为68°C，通过金属钨(W)掺杂，可以使相变温度升高。所以二氧化钒薄膜在智能节能窗、光开关等领域有非常广阔的应用前景。VCV薄膜制备的方法有很多，其中反应磁控溅射技术由于其所制备薄膜均匀致密、稳定性好、适合工业化生产的优点，是VCV薄膜制备最常用的制备技术。在VCV薄膜反应磁控溅射制备过程...
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