一种降低物理气相传输法生长SiC单晶中位错密度的方法技术资料下载

技术编号:9231318

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作为第三代宽带隙半导体材料的代表,碳化硅材料具有禁带宽度大、载流子饱和迀移速度高、热导率高、临界击穿电场强度高、化学稳定性好等优良的物理化学特性。基于这些优良的特性,SiC材料被认为是制作高频、大功率、耐高温和抗辐射电子器件的理想材料,以其制造的器件在白光照明、汽车电子化、雷达通讯、石油钻井、航空航天、核反应堆系统及军事装备等领域有着广泛的应用。生长大直径、高质量的SiC单晶是实现器件应用的关键。过去的20年中,经过国内外同行的不懈努力,在碳化硅材料研制方...
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