技术编号:9233984
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 随着经济的快速发展,功能性高分子材料薄膜在电池、超级电容和污水处理等方 面得到广泛应用,且需求量日益增大。但高分子材料薄膜不亲水,需要对其进行亲水处理, 賴化处理就是亲水处理方法之一。 賴化处理时,反应腔内H氧化硫气体的浓度很高,任何传感器放入其中都很快失 灵,所W很难感知反应腔内H氧化硫气体的浓度,很多情况下只能凭经验将H氧化硫气体 阀口开到一定程度,而不能做适时的动态调整,从而影响了薄膜的賴化处理效果。发明内容 本发明的目的是提供一种H氧化硫气体浓度...
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