技术编号:9236572
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。通常,等离子体是指由离子、电子、自由基等形成的电离气体。等离子体由极高温度、强电场或高频的电和磁场产生。等离子体处理设备为将反应物转化为等离子态(plasma state)以将其沉积于半导体基板上,以及利用等离子态的反应物清洁、灰化(ash)或刻蚀半导体基板的设备。半导体产业的发展使半导体设备能够具有大容量和高功能。因此,必须在狭窄的空间内集成更多构件。为此,半导体设备制造技术正在开发和研宄尺寸缩小(scale-down)和高度集成的模式。对于这种尺寸缩小...
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