阻挡层形成用组合物、带有阻挡层的半导体基板、太阳能电池用基板的制造方法以及太阳 ...的制作方法技术资料下载

技术编号:9252547

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对于现有的硅太阳能电池元件的制造工序进行说明。 首先,为了促进陷光效应而实现高效率化,准备在受光面形成了纹理结构的P型 硅基板,接着,在三氯氧磷(POCl3)、氮气以及氧气的混合气体气氛中在800°C~900°C下进 行几十分钟的处理,在P型硅基板的表面同样地形成n型扩散层。接着,在受光面涂布银 (Ag)等电极糊剂、在背面侧涂布铝(Al)等电极糊剂后,进行热处理(烧成),由此获得太阳 能电池元件。 然而,由于太阳光不会入射到受光面侧的电极的正下方,因而该...
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