状态分析的方法和装置的制作方法技术资料下载

技术编号:92529

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本发明是关于状态分析的方法和装置,特别是涉及以元素状态数据(例如样品中所含元素的化学键状态)为基础进行线性分析成二维扫描成象的状态分析方法和装置。使用电子探针微分析仪(EpMA)等将电子束或X射线作为样品的激发源施加至样品上,借此测量样品发射的特征X射线强度以便获得有关元素的数据。一般情况下,使用EpWA对样品表面状态进行分析时,它向样品表面发射电子束,并探测来自表面约1μm微小面积的特征X射线,从而获得样品的元素分析数据。基本上来说,设计和制造EpMA是用于进行元素分析,而不是直接用于分析任何化合物。因此,当一个...
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