技术编号:9257328
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本专利涉及一种17, 21-双羟基留体衍生物的合成方法。背景技术 17, 21-双羟基是留体化合物的重要官能团,很多留体化合物具有17, 21-双羟基 或相应酯的结构,例如地塞米松、双氟美松、倍他米松、泼尼松龙、泼尼松、卤米松、甲泼尼 龙、阿氯米松、帕拉米松、醋丙甲泼尼龙、依碳氯替泼诺等。因此留体17, 21-双羟基物的制 备非常重要。 文献"J. Org. Chem. 1986, 51,4323-4325"报道了在(TC下,将间氯过氧苯甲酸 (mCPB...
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