技术编号：9260867
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在LSI,超LSI等的半导体制造或液晶显示板等的制造中，要对半导体晶片或液晶 用原板进行光照射来制作图案，此时，如果所用的光掩模或中间掩模（W下统称"光掩模"） 上有灰尘附着，尖端部就会不光滑，还会发生基底脏污等，使尺寸，品质，外观等受损等问 题。 由此，该些的作业通常在无尘室中进行，但是，即使如此，也难保持光掩模的经常 清洁，所W，要在光掩模表面贴附灰尘去除的防尘薄膜组件后，再进行曝光。在该种场合，异 物就不会在光掩模的表面上直接附着，而是附着在防尘薄...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。