技术编号：92688
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于专门适于制备光致抗蚀层的正性辐射线敏感涂层液。已知的正性光致抗蚀液，主要成分含有萘醌二 氮化物，或者含有由能够被酸裂解的化合物和经光化辐射线作用后形成强酸的化合物所组成的组合物。这些正性光致抗蚀液在生产印刷电路和微电子元件中，广泛用于化学蚀刻等。在这些应用领域中，通常由制造厂提供光敏涂层液，然后由用户将其涂布在适当的分层支持物上，例如涂在硅片上或者某种绝缘材料的铜 层板上，然后使涂层干燥。与工业上通常用于生产PS印刷版或者干膜抗蚀剂时连续涂布无端头支持物的过程相比，这种单片涂布法当然更难进行，更容易出现...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。