含有氮化硼涂层的真空镀膜设备的靶材腔体及制备方法技术资料下载

技术编号:9274010

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在真空镀膜领域,传统的真空镀膜设备,用于安置靶材的腔体内,一般无任何附加的涂覆物。在实际的真空镀膜设备使用过程中,靶材所置腔体内都会因生产过程中产生的靶材落尘积聚而覆盖上一层或厚或薄的残留物。该层残留物对真空镀膜设备的使用造成一定的影响,更为严重的甚至影响到镀膜设备生产产品的成品率。因此在真空镀膜设备保养过程中,需要通过某些方式,例如喷砂作业等操作工艺对所述残留物进行处理。在真空镀膜领域,特别是玻璃真空镀膜领域,大部分靶材在真空溅射过程中会产生落尘,而所述...
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