技术编号:9277365
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 本案是申请日为2012年3月30日,申请号为201210091871.X,发明名称为"等离 子体处理装置"的申请的分案申请 本发明涉及对被处理基板实施等离子体处理的技术,特别涉及电感耦合型等离子 体处理装置。背景技术 在半导体器件、FPD(Flat Panel Display (平板显示器))的制造工艺的蚀刻、堆 积、氧化、溅射等处理中,为了与处理气体在较低的温度下进行良好的反应,普遍利用等离 子体。一直以来,这种等离子体处理大多使用MHz区域的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。