技术编号：9278134
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及用于EUV-光刻中的镜面基材的由Ti02-Si02玻璃构成的坯料。 此外，本发明涉及制造这种坯料和用作制造其的半成品的模制体的方法。背景技术 在EUV光刻中，借助微光刻投影仪器产生具有小于50nm的刻线宽度的高度集成 的结构。在此，使用具有波长为约13nm的来自EUV-区域(超紫外光，也称为软X射线辐射） 的激光辐射。该投影仪器配备有镜面元件，其由富含硅酸和用氧化钛掺杂的玻璃（以下也称 为"Ti02-Si02玻璃"）构成，并且配有起反射作用的层...
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