技术编号:9291808
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。外延(epitaxy)是一种广泛用于半导体处理中以在半导体基板上形成非常薄的材料层的工艺。所述层经常定义某些最小的半导体装置的特征,且若结晶材料的电学特性是所需的,则所述层可具有高质量的晶体结构。沉积前驱物(deposit1n precursor) 一般提供至处理腔室,所述处理腔室内设置基板,所述基板被加热至促成具有所需特性的材料层的生长的温度。通常希望薄膜具有非常均匀的厚度、成分及结构。由于局部基板温度、气体流动、及前驱物浓度的变化,因此要形成具有均匀且...
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