技术编号：9302249
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 随着大规模集成电路制造业的发展，以光刻机为代表的纳米加工设备集成了光、 机、电等多个学科的尖端技术，代表了先进制造技术的最高成就。由于以光刻机为代表的纳 米加工设备涉及到纳米曝光、定位与测量，其对振动的、温度、湿度和颗粒等环境控制的要 求及其严格，减振技术就是其中的关键技术之一。早期的光刻机及精密加工设备采用的是 被动减振系统，减振元件有金属弹簧、橡胶和空气弹簧，有时会附加一些阻尼结构。这些减 振系统结构简单，易于实现，缺点是一旦设计完成，其参数很难更改...
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