技术编号:9308121
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明溅射装置相关申请的交叉参考本申请请求2013年3月I日提交的美国临时专利申请序列号61/771,460的权益,所述临时专利申请以引用的方式并入本文。发明背景旋转靶材的磁控管溅射是众所周知的并被广泛地用于在各种基板上产生各种薄膜。在旋转靶材磁控管溅射的最基本的形式中,要被溅射的材料被形成为管的形状或被粘附到由刚性材料制成的支撑管的外表面。磁控管组件被设置在管中并供应磁通量,所述磁通量渗透靶材,使得在靶材的外表面上有足够的磁通量。磁控管组件产生的磁场被...
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