技术编号：9324432
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明属于散射光学测量，更具体地，涉及一种适用于纳米级三维形貌 测量的远场矢量光学特性建模方法。背景技术 近年来，传统的微电子集成电路（IC)与微机电系统（MEMS)加工从微米量级突破 到纳米量级。随着加工尺寸的不断减小，其三维形貌参数对器件最终性能的影响也越来越 显著。这些三维形貌参数不仅包括特征线宽（即关键尺寸）、周期间距、高度、侧壁角等轮廓 参数，而且包含线宽粗糙度（LWR)、线边粗糙度（LER)等重要特征。由于三维形貌参数是IC 制造中影响器件性...
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