技术编号:9324991
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 在薄膜沉积中,残余应力的存在不仅影响着薄膜的性质,而且还在MEMS结构中对 结构产生明显的影响。薄膜中的残余应力在力的外部效应来看分为应力和拉应力,当压应 力过大的时候,就会是薄膜发生屈曲,这样是薄膜的附着力减弱,使薄膜与衬底脱离;当拉 应力过大的时候,会使薄膜产生褶皱,甚至出现破裂,这为下一步制作MEMS结构产生重要 的影响。而当采用表面微机械和体微加工技术将MEMS结构释放的时候,由于薄膜中残余应 力的存在,就会引起结构的失稳,弯曲甚至断裂;残余应力...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。