一种亚微米级干法刻蚀工艺方法技术资料下载

技术编号:9326147

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

干法刻蚀是用等离子气体进行薄膜刻蚀的技术,是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果。声表面波器件利用干法刻蚀工艺,在金属薄膜表面刻蚀出需要的金属栅阵线条图形。声表面波滤波器(SAWF)广泛的应用在射频移动通信中,随着四代移动通信时代的来临,移动基站使用的SAWF的频率也提升到了 2595MHZ。高频化是移动通信发展的趋势要求,然而高频率带来的是工艺难度的极大增加,2595MHZ频率对应的金属线条到了 0.3微米左右,已经非常接近深亚微米。传统的干法刻蚀工艺...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服
  • 孙老师:1.机机器人技术 2.机器视觉 3.网络控制系统
  • 杨老师:物理电子学