技术编号：9326155
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明置本发明涉及一种流场密封与注液回收装置，特别是涉及一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。背景技术光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个涂有光敏光刻胶的硅片。浸没式光刻(Immers1n Lithography)设备通过在最后一片投影物镜与娃片之间填充某...
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