P型GaN层及LED外延结构的制备方法技术资料下载

技术编号:9328629

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GaN材料具有带隙宽(Eg = 3.39 eV)、发光效率高、寿命长等特点,成为制备蓝白 光发光二极管(LED)的最优选材料,被誉为第三代半导体材料。由于GaN和衬底材料间的晶 格常数和热膨胀系数相差较大(如GaN和蓝宝石衬底间晶格常数相差16%),因此GaN外延薄 膜中存在的位错密度很大,通常为IO 8~10 cm 2,未掺杂GaN材料的室温背景载流子(电 子)浓度高达IO17Cm 3,显示出η型电导,掺Si可以很容易获得η型,电子浓度达到IO19~ ...
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