技术编号:9332267
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 目前,线性空间原子层沉积(ALD)的单晶圆反应器具有单件的、以石墨为基础的 基座来携带晶圆。此设计有利于在固定喷头下的往复式单炔基座用于多层埃级(angstrom level)的沉积。每个循环晶圆必须加速/减速,这会影响额外时间和产量。同时,由于静止 的注射器必须覆盖整个晶圆区域,故基座必须比晶圆直径的三倍更长。这将腔室体积和抽 气量增加为九倍。每次晶圆需要进行交换时,腔室需要重新稳定压力、温度及流量,从而花 费大量的额外时间。因此,目前的线性腔室没有足...
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