在集成电路中形成栅栏导体的制作方法技术资料下载

技术编号:9332843

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已通过可用的光刻工艺限制用于半导体裸片中的有源元件(例如,晶体管)的互连的经图案化导电线的大小的减小。随着由形成半导体裸片上的晶体管的光刻遮蔽工艺的改进引起的这些晶体管的数目增加,必须互连使这些大小逐渐减小的晶体管的导电线已无法在大小上与渐小晶体管成比例地减小。发明内容因此,需要一种在不限制可用于制造半导体集成电路的光刻工艺的情况下减小经图案化导电线的大小的方式。根据一实施例,一种用于在半导体集成电路裸片中形成栅栏导体的方法可包括以下步骤将第一电介质沉积在...
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