技术编号:9377692
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利说明 相关申请的交叉引用 本申请要求于2014年5月12日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请 No. 10-2014-0056641的优先权,该申请的公开全文以引用方式并入本文中。 本申请涉及一种等离子体设备和利用该等离子体设备制造半导体器件的方法,具 体而言,涉及一种能够有效地控制各种工艺因素的等离子体设备和利用该等离子体设备制 造半导体器件的方法。背景技术 半导体器件由于它们的小尺寸、多功能和/或低制造成本而广泛地用于电子工业 中。可利用诸如沉积、...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。