技术编号:9377954
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。图1为现有技术中显不基板的结构不意图。如图1所不,在液晶显不装置的制备过程中,通常在树脂层101之下形成由氮化硅材料构成的钝化层102,所述钝化层102作为水汽的阻挡层,可以提高薄膜晶体管的性能。在工艺过程中,首先对树脂层101进行曝光显影和固化工艺,之后对所述钝化层102进行刻蚀形成过孔。由于树脂层101与钝化层102的刻蚀速率不同,会造成钝化层102的横向刻蚀,从而在树脂层101与钝化层102之间形成倒钩角(如图中A区域所示),这将导致在后续工序中,沉...
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