技术编号:9383193
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。基板处理装置是在半导体或液晶面板等的制造工序中,将处理液(例如,抗蚀剂剥离液或清洗液等)供给至晶片或液晶基板等基板的表面并对基板表面进行处理的装置。在该基板处理装置中,一种进行自旋(spin)处理的基板处理装置被提出(例如,参考专利文献I),该自旋处理使基板以水平状态旋转,将处理液从与此基板表面的中央对置的一个喷嘴供给至基板表面,通过由旋转所产生的离心力使此处理液扩散至基板表面。现有技术文献专利文献专利文献I日本特开2002 - 336761号公报发明所要...
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