技术编号：9396166
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于半导体制造工艺中的光刻胶的水系剥离液组合物，该剥离液能有效去除曝光后的光刻胶，并且对ITO线路不产生腐蚀，循环使用时不易堵塞过滤网和滤芯。背景技术在大规模集成电路制造过程中，已广泛使用光刻胶剥离液作为生产线上的清洗剂。在制造过程中，光刻胶薄膜经高温烘烤，沉积在ITO玻璃表面，然后再经过曝光显影、蚀亥IJ，最后成为电路图案。在蚀刻工艺后，曝光后的光刻胶必须从电路图案表面除去，同时不能损伤ITO和玻璃基板，从而进行后道工序的操作。常规负性光刻...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。