技术编号：9400895
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在一些化学气相沉积（CVD)与原子层沉积（ALD)处理腔室中，基板（在此亦称作 晶圆）会相对前体注入器和加热器组件移动。若移动造成的加速力比摩擦力大，则晶圆将 会位移，以致发生损坏或相关问题。 为防止处理期间转动力移走晶圆，需额外的用以夹紧或夹持使晶圆留在适当位置 的硬件。附加硬件可能昂贵、难以安装、难以使用及/或于使用时损坏晶圆。 因此，本领域中仍需能于处理期间将晶圆保持在适当位置，以防偶发损坏晶圆与 硬件的方法和装置。发明内容 本发明的实施例是针对包...
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