技术编号:9418789
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在现有技术中,应用于透明导电电极(transparent conductive electrode)的纳米银线(Ag NW)图案化方法主要是使用湿式蚀刻法或激光蚀刻法。其中,湿式蚀刻法需先涂布整面的膜层,再经过黄光工艺,其不仅步骤繁复且浪费材料。此外,纳米银线较难被蚀亥IJ,在蚀刻过程中,很可能出现纳米银线的残留物。而对于激光蚀刻法来说,其在大面积上处理费时且成本昂贵。针对上述步骤繁琐或成本较高的不良情形,现有技术的一种解决方案是在于使用压印转移(impr...
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