混合的金属-硅-氧化物阻隔膜的制作方法技术资料下载

技术编号:9422059

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气体、液体和其它环境因素可能引起各种商品的恶化,例如食品、医疗和电子设 备、药用物品。因此,传统上,与敏感性商品有关的包装上或其中含有阻隔膜以便在这些商 品的生产、储存或使用过程中防止或限制气体或液体,例如氧气和水,通过包装渗透。 原子层沉积(ALD)是一种薄膜沉积方法,描述于如下专利文献中迪基(Dickey) 等的美国专利号8, 137, 464( "' 464专利")、美国申请号11/691,421、申请日为2007年3 月26日、题目为《用于涂覆柔...
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