技术编号:9422064
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。原子层外延(ALE)方法由Tuomo Suntola博士在1970年代早期发明。该方法的另一通用名称是原子层沉积(ALD),如今已经代替ALE被使用。ALD是基于将至少两个反应前驱物种类顺次引到至少一个基板的特殊的化学沉积方法。通过ALD生长的薄膜致密,无小孔并且具有均匀的厚度。例如,在实验中,铝氧化物由也被称为TMA的三甲基铝(CH3)3A1和水通过热ALD来生长,结果在整个基板晶圆上仅有大约I%的非均匀度。ALD技术的一个引人关注的应用是在表面上提供保...
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