技术编号：9422518
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明用于测量微结构的非对称性的方法和设备、位置测量方法、 位置测量设备、光刻设备和器件制造方法 相关申请的交叉引用 本申请要求于2013年3月20日递交的美国临时申请61/803, 673的权益，并且其 通过引用全文并入本文。 本发明设及微结构中非对称性的测量。本发明可W应用在用于测量衬底上的掩模 的位置的改进的设备和方法中。在其它方面本发明提供了一种光刻设备和器件制造方法。背景技术 光刻设备是一种将期望的图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。