技术编号：9422922
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明设及在例如用于等离子体蚀刻、加热、渗氮和利用PE-CVD工艺沉积层的真 空涂层设备中用来产生等离子体的一种等离子体产生装置和产生等离子体的一种方法。发明内容 本发明基于按照热电子发射原理并且在对加热后的发射极施加负电压之后（肖 特基效应）或者按照空屯、阴极等离子体源的原理工作的等离子体源。按照本发明所述， 使用有电气边界的空腔作为等离子体产生装置的阳极，该空腔例如外凸地安置在真空容器 上。在关断等离子体之后通过快口机构将该空腔封闭，从而避免随后的工...
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