技术编号：9431529
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。可以采用各种方式完成对将在衬底上制造的结构的曝光。通常利用不同的不变掩模版来对衬底上的不同层进行曝光。备选地，通过电子束或离子束写入装置可以实现无掩模版曝光。然而，这种电子束或离子束曝光缓慢并且昂贵。期望提供一种用于以低成本对衬底上的结构进行快速曝光的灵活的构思。发明内容一些实施例涉及一种用于对衬底上的结构进行曝光的方法。所述方法包括将不变掩模版和可编程掩模版定位在光源和将被曝光于光的衬底上的层之间的光路中，并且通过使来自光源的光穿过不变掩模版和可编程掩模...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。