技术编号:9437972
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 光(纳米)压印法是用于在例如加工基板等基板上生产图案化抗蚀膜的技术之 〇 包括长的照射步骤的光(纳米)压印法具有低的生产性的缺点。如果模具与固化 的抗蚀剂分离所需要的力(脱模力)大,则例如图案的缺陷和由基板从台架的剥离导致的 对齐精度降低等各种问题会发生。 为了克服这些缺点,日本专利特开No. 2010-114209公开了一种光(纳米)压印 法,其中将供氢体添加至光固化性组合物中,从而改善光固化速度。 日本专利特开No. 2007-084625公开了一种...
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